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真空电镀技术的缺点:难以获得晶体结构的薄膜；沉积的薄膜与基底之间的附着力差；工艺重复性不够好。
一般来说，真空电镀广泛应用于民用工业的装饰膜和包装膜。例如:汽车、灯具、玩具、车辆、家电、工艺品、日用商品、手机架、化妆品等包装产品。
真空电镀是将镀膜材料放在真空电镀室中，通过蒸发源加热蒸发。当蒸发分子的平均自由程大于蒸发源与衬底之间的尺寸时，蒸发粒子从蒸发源表面溢出，PVD电镀加工，在飞向衬底表面的过程中很少遇到其他例子(主要是残留气体分子)的碰撞障碍物，PVD电镀价格，直接到达衬底表面凝结成薄膜。
不难看出，真空电镀工艺由蒸发源表面薄膜材料的蒸发、蒸发颗粒(主要是原子)在气相中的迁移、薄膜通过吸附在衬底表面的凝结三个过程组成。通过这一过程创造良好的成膜条件是非常必要的。
随着真空电镀的工艺发展不断的创新，PVD电镀哪里有，硬质薄膜的设计也向着多元化、多膜化的方向发展，至今已经是现代企业的镀膜工艺。其实真空电镀的正常操作方法应该参考操作手册的指示操作。
1、检查真空镀膜设备各操作控制开关是否在'关'位置。
2、 打开总电源开关，真空镀膜设备送电。
3、低压阀拉出。开充气阀，听不到气流声后，启动升钟罩阀，钟罩升起。
4、安装固定钨螺旋加热子。把PVDF薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上。把铝丝穿放在螺旋加热子内。清理钟罩内各部位，保证无任何杂质污物。
5、落下钟罩。
6、启动真空镀膜设备抽真空机械泵。
7、开复合真空计电源（复合真空计型号：Fzh-1A)。
8、多弧离子镀膜机当低真空表“2”内指针再次顺时针移动至6.7Pa时，低压阀推入。
9、真空镀膜设备开通冷却水，启动扩散泵，珠海PVD电镀，加热40min。
真空镀膜技术是真空应用技术的一个重要分支。已广泛应用于光学、电气工程、能源开发、理化仪器、工程机械、包装、民用产品、表面科学和科学研究等领域。用于真空镀膜的方法主要有蒸发镀、溅射镀、离子镀、束沉积镀和分子束外延，还有化学气相沉积。如果真空镀膜的目的是改变材料表面的物理和化学性能，技术权利是真空表面处理技术的重要组成部分。
真空镀膜在电子产品中占有重要地位。各种尺寸的继承电路。包括存储器、运算单元、指令逻辑元件等，必须使用导电膜、绝缘膜、保护膜。铬膜用作制备电路的掩模。
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