合肥电镀-芜湖国瑞电镀表面处理-电镀银

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电镀加工需要提供温度来进行抛光的金属有钢铁、镍、铅等，若温度低于某一定值，就会失去光滑的腐蚀表面，故存在一个形成光泽面的临界点，在临界点以上的温度范围内抛光效果较好。而这个温度范围又因液体的组成不同而异，如果高于这个温度范围，会形成点蚀、局部污点或斑点，使整个抛光效果降低。此外，合肥电镀，温度越高，材料的溶解损失也越大。

(2)铜及其合金的化学抛光。铜和单相铜合金可在磷酸一一醋酸或硫酸一一铬酸型溶液中进行化学抛光

在使用过程中需经常补充，抛光时如果二氧化氮析出较少，零件表面呈暗黄色时，可按配置量的1/3补充。为防止过量的水带入槽内，零件应干燥后再抛光。

(3)铝及铝合金的化学抛光。为获得光亮的表面，必须严格控制抛光液的含量。含量过低，抛光速度慢且抛光后表面光泽性差；含量过高，容易发生鳞状腐蚀。磷酸浓度低时，电镀金，不能获得光亮的表面，为了防止溶液被稀释，抛光前的零件表面应干燥。醋酸和硫酸可以抑制点状腐蚀，使抛光表面均匀、细致。硫酸铵和尿素可以减少氧化氮的析出，并有助于改善抛光质量。少量的铜离子可以防止过腐蚀，从而提高抛光表面的均匀性，电镀厂家，但含量过高又会降低抛光表面的反光能力。铬酐可以提高铝锌铜合金的抛光质量，含锌、铜丝高的强度铝合金在不含铬酐的抛光液中，难以获得光亮的表面。

经化学抛光的零件，一般应在室温下于400—500g/L的中或在100~200g/L的铬酐溶液中，浸渍数秒至数十秒，以除去表面的接触铜。

真空蒸镀的关键参数

饱和蒸气压(PV): 在一定的温度下，真空室中蒸发材料的蒸气在与固体或液体平衡过程中所表现的压力.饱和蒸气压与温度的关系曲线对于薄膜制作技术有重要意义，它可以帮助我们合理选择蒸发材料和确定蒸发条件。

真空度：P ≤ 10-3 Pa（保证蒸发，粒子具分子流特征，以直线运动）

基片距离 (相对于蒸发源)：10~50 cm（兼顾沉积均匀性和气相粒子平均自由程）蒸发出的原子是自由、无碰撞的， 沉积速度快。容易根据蒸发原料的质量、蒸发时间、衬底与蒸发源的距离、衬底的倾角、材料的密度等计算薄膜的厚度。

从***减少电镀废气

通过改变电镀工业生产的工艺流程，或采用无毒材料，使电镀生产过程中，达到有毒有害废气零排放的目的。

1 在电镀过程中，对镀件清洗时，电镀银，叫投采用碱洗除油、酸洗除绣，因此，在清洗溶液中，分别添加酸雾、碱雾，可以有效减少酸雾、 碱雾的排放。2铬雾的抑制，可以采用低温设备或低温工艺流程，同时在镀络溶液中加入少售的全氟醚磺酸盐，并注意全氟院醚磺酸盐配置方法和配比，可以有效抑制铬雾的产生。此外，还可以在镀铭槽表面，覆盖一层聚乙烯、聚材质的空心小球，也能有效抑制铬雾释放。3氮氧化物的抑制，抑制电镀工艺中氮氧化物的排放，可以采用不加的电镀工艺流程，如铝件电镀时，采用硫酸和磷酸，再加入少量的添加剂，即可对铝件进行抛光。另一方面，利用化学氧化法和化学还原法，将氧化成或者将氮氧化物气体还原成无毒的惰性气体。