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工程师或设计师在产品电镀前应考虑到的点有:
1. 在电镀加工工艺中嵌入零件。由于电镀涉及部件表面的电化学反应,因此暴露于电镀化学品对成品的整体性能至关重要。零件嵌套将导致成品表面缺乏粘附或覆盖。
2. 关键零件尺寸的公差应以电镀厚度为准。这也意味着应该考虑整体装配。
3. 完成的部件会暴露在环境中。这将有助于确定部件耐腐蚀或重复磨损循环所需的镀层厚度。
4. 因为电镀涉及使用电流来引发工件表面的反应,工件的总体几何形状将影响工件表面的电流分布(通常称为电流密度)。电镀层往往积累在诸如尖角,弯曲或螺纹之类的部位上。存在可以防止发生此问题的电镀过程。
5. 电镀溶液(表面处理或电镀浴化学物质)的排水,使得部件的内表面被充分地覆盖,电镀加工,并且电镀将具有足够的粘结强度。对于某些部件,这意味着在设计阶段增加了一个漏孔。
6. 预期用途和要求的特性(例如导电性,低摩擦,高强度和耐腐蚀,耐磨等)。这些标准应该足以应用于完成每个特定部件的金属类型。
真空蒸镀
真空蒸镀,简称蒸镀,是指在真空条件下,采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化,粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。蒸镀是使用较早、用途较广泛的气相沉积技术,具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能等优点。
蒸镀的物理过程包括:沉积材料蒸发或升华为气态粒子→气态粒子快速从蒸发源向基片表面输送→气态粒子附着在基片表面形核、长大成固体薄膜→薄膜原子重构或产生化学键合。将基片放入真空室内,以电阻、电子束、激光等方法加热膜料,使膜料蒸发或升华,气化为具有一定能量(0.1~0.3eV)的粒子(原子、分子或原子团)。气态粒子以基本无碰撞的直线运动飞速传送至基片,到达基片表面的粒子一部分被反射,另一部分吸附在基片上并发生表面扩散,沉积原子之间产生二维碰撞,形成簇团,有的可能在表面短时停留后又蒸发。粒子簇团不断地与扩散粒子相碰撞,或吸附单粒子,或放出单粒子。此过程反复进行,当聚集的粒子数超过某一临界值时就变为稳定的核,再继续吸附扩散粒子而逐步长大,终通过相邻稳定核的接触、合并,电镀加工价格,形成连续薄膜。
化学镀铜液成分失调通常表现为沉铜速度慢。如果在化学沉铜时,塑料件表面在5rain之内开始沉铜,电镀加工公司,那就不是镀铜液成分失调的问题;
若化学镀铜时,塑料件工件表面在15min以上还没有铜层,那就可能是化学镀铜液的pH值太低、温度低、甲醛含量低、硫酸铜含量低或络合剂含量太高的原因,可以采取分析溶液按比例进行调整消除这种故障。
另外,粗化溶液中铬酸含量不足,电镀加工电话,粗化温度过低或时间太短也会出现粗化不良,导致工件局部表面镀不上铜。
不同的塑料需要采用不同的粗化温度和时间,大多数国产的ABS塑料,粗化温度只需在60℃~65℃,时间为20min~30min就可以了,粗化温度再高,容易造成粗化过度,使塑料工件变形。
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