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在电镀加工生产线上,工件在电镀加工前进行的一系列前处理都是为了得到更好的镀层,那么化学抛光在整个前处理中也是很重要的,下面我们就来了解一下电镀加工前处理的化学抛光。
化学抛光是指在合适的溶液中,不使用外接电源,依靠化学浸蚀作用对工件进行的抛光。在化学抛光过程中,由于金属微观表面形成了不均匀的钝化膜,或由于形成了类似电解抛光过程中所形成的稠质黏膜,从而使表面微观凸出部分的溶解速度显着大于微观凹入部分,因此降低了零件的表面显微粗糙程度,使零件表面比较光亮和平整。化学抛光广泛应用于不锈钢、铜及铝合金等的抛光,还用于对一些零件做装饰加工。化学抛光可作为电镀加工前的处理工序,也可在抛光后辅以必要的防护措施而直接使用。
电镀层加工常见的个质量问题:
1、凹穴镀层
镀层表面有疏密不规则的凹穴呈“天花脸”镀层。有二种情况可能形成“天花脸”镀层。
(1)有的单位用玻璃珠喷射法除去溢料。当喷射的气压太高时,玻璃珠的动能惯性把受镀表面冲击成一个个的小坑。当镀层偏薄时,没有填平凹坑,合肥镀银,就成了“天花脸”镀层。
(2)基体材料合金金相不均匀,在镀前处理过程中有选择性腐蚀现象。电镀后没有填平凹穴,就成“天花脸”镀层。
2、疏松树枝状镀层
在镀液脏,主金属离子浓度高,络合剂低,添加剂低,阴阳极离的太近,镀银哪家好,电流密度过大,在电流区易形成疏松树枝状镀层。疏松镀层像泡沫塑料,树枝状参差不齐,可用手指抹落镀层。
电镀加工镀层厚度计算公式:
1、理论计算公式:Q=I×TI=J×S
Q:表示电量,镀银多少钱,反应在PCB上为镀层厚度;
I:表示电镀所使用的电流,单位为A(安培);
T:表示电镀所需的时间,单位为min(分钟);
J:表示电镀密度,镀银加工,指每平方英尺的单位面积上通过多少安培的电流,单位为ASF(A/Ft2);
S:表示受镀面积,单位为Ft2(平方英尺)。
2、计算公式:【备注:1um=39.37微英寸(μ')=0.03937毫英寸(mil)】
(1)、铜镀层厚度(um)=电流密度(ASF)×电镀时间(min)×电镀效率(%)×0.0202(电镀系数)
(2)、镍镀层厚度(um)=电流密度(ASF)×电镀时间(min)×电镀效率(%)×0.0182(电镀系数)
(3)、锡镀层厚度(um)=电流密度(ASF)×电镀时间(min)×电镀效率(%)×0.0456(电镀系数)
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