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按使用的原材料材质不同，溅射靶材可分为金属/非金属单质靶材、合金靶材、化合物靶材等。溅射镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制，可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜，所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点，已成为制备薄膜材料的主要技术之一，各种类型的溅射薄膜材料已得到广泛的应用，因此，对溅射靶材这一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，溅射靶材亦已成为目前市场应用量较大的PVD 镀膜材料。
无论是眼镜还是镜头，都希望能让所需要波长的光（即某些颜色的光）尽可能多地透射过去。但是，当光线进入不同传递物质时（如由空气进入玻璃），手机配件IP电镀加工，大约有5% 会被反射掉，在光学瞄准镜中有许多透镜和折射镜，整个加起来可以让入射光线损失达30%至40%。
这些膜叫“增透膜”，大朗手机配件IP电镀，顾名思义可以提高某些波长的光的透射。
接下来说一下为什么镀了膜能增加透射；详细说来，各种镀膜的颜色不同主要取决于厚度。
在镀膜的上下表面都会发生反射，这样两束光相遇的时候，其光程差
其中n0是膜的折射率，d是膜的厚度。
真空镀膜磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电子交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击亚气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。
不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。
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